kiv |
|
Régulier Messages : 135Depuis le 30 juin 2003 Bruxelles |
Bonjour à tous,
pour éviter que l'on arrive vite à la limite de nos M; on peut sous exposer une pellicule non ? triX 400 -> trix200 hp5 400 -> hp5 200 mais pour le développement comme ça se passe ? j'ai lut qu'il fait racourcir de 20% le temps de développement ? est ce correct ? |
stephan |
|
Régulier Messages : 103Depuis le 28 déc 2003 Maurepas (78), France |
J'ai pas regardé, mais jettez un oeil sur ce site, il serait étonnant qu'il n'y est rien à ce propos...
http://www.digitaltruth.com/devchart.html Cordialement,
Stéphan. |
stephan |
|
Régulier Messages : 103Depuis le 28 déc 2003 Maurepas (78), France |
Rapide coup d'oeil :
HP5+ à 20° dans de l'XTOL => 7.5mn à 200 et 8.5 à 400... Cordialement,
Stéphan. |
Retourner vers Labo argentique
Utilisateurs parcourant cette section : Aucun utilisateur enregistré et 5 invités